現在聯系鏈式焊接爐主要用于半導體：二極管、整流橋、集成電路、電力電子器件等在氮氣、或氫氮混合氣體的保護下進行焊接、封裝、退火烘干等工藝。及集成電路金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結及各種零件在氫氮保護下進行，運載能力大，并采用水、氣電轉換器控制傳感報警及超溫保護報警功能。YH-G系列鏈式爐設有

現在聯系鏈式網帶爐一、產品用途及描述：主要用于厚膜基片、片式器件燒銀、LTCC等器件的高溫燒結等相關熱處理的工藝生產。設備主要由加熱系統、冷卻系統、電器控制系統、傳動系統、機架等部分組成。二、指標參數：1、額定溫度：1050℃2、使用氣氛：空氣3、加熱元件：PEC陶瓷仟維加熱器4、溫區個數：7-1

現在聯系氧化擴散爐一．設備概述： 本設備主要用于集成電路、電力電子等行業的電子專用設備，將3-6英寸硅片在通氧氣的狀態下高溫熱處理，在硅片表面形成氧化膜的過程，氧化工藝是集成電路工藝中應用最廣泛的基礎工藝之一，氧化膜的用途廣泛，可作為離子注入的阻擋層及注入穿透層（損傷緩沖層）、表面鈍化、絕緣柵材料

現在聯系立式真空擴散爐本設備主要應用于集成電路、分立器件、電力電子器件熔化焊接來進行的生產、擴散、燒結、以及熱處理退火等工藝操作。主要技術指標： 方式：立式、環壁加熱，鐘罩升降式，絲杠上下傳送料，自動升降送料，真空室內配有工件支架可處理硅片尺寸：2-8英寸恒溫區長度：400-800mm工作溫度：400

現在聯系臥式真空擴散爐一．設備概述： 真空擴散爐水平對置采用電腦工控機軟件控制方式，大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業的3-6英寸工藝硅片在真空狀態下的擴散、氧化、退火、合金和燒結等工藝。 二．設備參數類型： 方式：左/右手操作方式，大工作臺面（側面采用高效凈化）可配工藝管數

現在聯系立式擴散爐本設備主要應用于集成電路、分立器件、電力電子硅片擴散、燒結、以及熱處理退火等工藝操作。 立式、環壁加熱，鐘罩升降式，絲杠自動上下升降送料。功能特點： ★全英文windows操作界面，可編輯參數，操作方便。 ★可保存多條工藝曲線，每條曲線可設置多步。 ★工藝曲線的自動運行控制功能。

現在聯系擴散爐爐體產品說明：★優質加熱絲：KANTHAL‘APM A-1 AF D及HRE… ★絕熱材料：PMF T2 T3…晶體纖維等★絕緣子： 高純剛玉 ★端口過渡環：氧化鋁氧化鋯等真空成型?！锟販囟危?段、5段、9段控溫 用途：★半導體擴散爐燒結爐等 ★滿足4"-8"圓晶擴散爐" ★完整的產

現在聯系鏈式燒結爐設備用途: 用于半導體器件燒結、焊接、烘干、管殼氣密封裝等。鏈（帶）式燒結爐特點 本設備為氣氛保護爐，保護氣氛為氫氣、氮氣、氬氣等。 設備具有連續工作性，保證生產效率。 獨特的氣幕簾結合，確保爐膛與空氣隔絕。 多溫區控制爐溫，方便調整工藝曲線。